【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來(lái)刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子。離子可以直流輝光放電(glowdischarge)產(chǎn)生，在10-1—10Pa真空度，在兩極間加高壓產(chǎn)生放電，正離子會(huì)轟擊負(fù)電之靶材而濺射也靶材，而鍍至被鍍物上。正常輝光放電(glowdischarge)的電流密度與陰極物質(zhì)與形狀、氣體種類壓力等有關(guān)。濺鍍時(shí)應(yīng)盡可能維持其穩(wěn)定。任何材料皆可濺射鍍膜，即使高熔點(diǎn)材料也容易濺鍍，但對(duì)非導(dǎo)體靶材須以射頻（RF）或脈沖（pulse）濺射；且因?qū)щ娦暂^差，濺鍍功率及速度較低。金屬濺鍍功率可達(dá)10W/cm2,非金屬＜5W/cm2。真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。河北真空鍍膜機(jī)多少錢
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場(chǎng)，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體用，須可災(zāi)弧。 射頻：13.56MHZ，非導(dǎo)體用。 脈沖：泛用，新發(fā)展出上海真空鍍膜機(jī)品牌PVD真空鍍膜機(jī)的公司。
【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對(duì)抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，將一級(jí)噴嘴擰出，先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍，再用洗衣粉兌水清洗一遍，然后用清水徹底清洗干凈，待水份揮發(fā)干以后，裝好泵膽，加入新擴(kuò)散泵油，并裝回機(jī)體，接好水管，裝好電爐盤，便可以重新開(kāi)機(jī)。在重新開(kāi)機(jī)前，要注意檢漏工作。
【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】： 真空泵：真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來(lái)講，真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理，真空泵基本上可以分為兩種類型，即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵（Rough Vacuum Pump）：一般用于抽粗真空，有油泵和 干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種： 旋轉(zhuǎn)葉片泵：油泵，極限真空可達(dá)10&3Torr，抽速1~650CFM 隔膜泵：干泵，極限真空1Torr左右，抽速<10CFM 往復(fù)式活塞泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速6~32CFM 渦旋式真空泵：干泵，極限真空10&2Torr，抽速12~25CFM 螺旋泵：干泵，極限真空10&3Torr，抽速30~318CFM真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。
【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過(guò)長(zhǎng)是什么原因？】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒(méi)有經(jīng)過(guò)檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長(zhǎng)時(shí)間都不能抽得上來(lái)的；(2)即使真空室沒(méi)有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。 （3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。 （4）真空室有漏水。 （5）抽空管道有漏氣。真空鍍膜機(jī)參數(shù)怎么調(diào)？河北真空鍍膜機(jī)多少錢
真空鍍膜機(jī)的升級(jí)改造。河北真空鍍膜機(jī)多少錢
現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)，主要用于一些放氣量較少的普通玻璃上鍍膜，由于大面積有機(jī)玻璃放氣量較大，熱變形溫度低，剛性低，因此現(xiàn)有的真空鍍膜機(jī)無(wú)法鍍制大面積有機(jī)玻璃?，F(xiàn)有的鍍膜機(jī)蒸發(fā)源間呈正方形分布，這樣鍍出的膜層均勻性差，無(wú)法保證大面積有機(jī)玻璃在鍍制過(guò)程中不變形。為了克服現(xiàn)有技術(shù)之不足，提供一種真空鍍膜系統(tǒng)，本系統(tǒng)由真空鍍膜系統(tǒng)和真空手套箱系統(tǒng)集成而成，可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍，并在手套箱高純惰性氣體氛圍下進(jìn)行樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測(cè)。河北真空鍍膜機(jī)多少錢